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性能:
氮化鎵作為第三代半導體,也被諾貝爾物理學獲獎者中村修二稱之為“終極襯底”,其禁帶寬度大、擊穿電壓高、熱導率大、電子飽和漂移速度高、抗輻射能力強和良好的化學穩定性等優越性質,使得它成為迄今理論上電光、光電轉換效率最高的材料體系,并可以成為制備寬波譜、高功率、高效率的微電子、電力電子、光電子等器件的關鍵基礎材料。
指標:
2英寸直徑藍寶石襯底外延GaN厚膜
厚度: 10~50μm(藍寶石襯底外延GaN)
位錯密度:小于1×107 cm-2
TTV:≦ 10 μm
BOW:≦ 15 μm
?自支撐GaN單晶襯底
厚度: 400.0μm ±30.0μm,300μm ±30.0 μm,
位錯密度:小于5×106 cm-2
TTV:≦ 10 μm
BOW:≦ 15 μm
粗糙度:Ra≤0.2 nm
山東科恒晶體材料科技有限公司
聯系人:石經理
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